産業技術総合研究所TIA推進センターナノプロセシング施設（NPF) は、電子ビーム、及びレーザービームを用いたマスクレス描画に関わる技術セミナーを、オンラインにて２０２２年３月１１日（金）に開催します。

前半はシリコン量子ビット作製に向けた極微細電子ビーム露光技術と電子ビーム描画装置の高速化について、後半はレーザー描画装置によるグレースケール露光や厚膜レジストプロセスについて紹介いたします。

産学官いずれのご所属の方にも奮ってのご参加をお待ちしています。

本セミナーでは2022年度からのご利用が可能になるハイデルベルグ・インストルメンツ社製のDWLレーザー描画装置を使ったリソグラフィ実習コースをご用意しました。座学コースへの参加が条件となりますが、こちらについても参加をお待ちしています。

講演

【日時】 2022年3月11日（金）12:55～17:10【オンライン】会議招待メールを後日参加申し込みされた方にお送りします。【参加費】無料【定員】 150名(先着順、参加登録をお願いします)【登録】参加申込ページから行って下さい。

リソグラフィ実習コース

【日時】 2022年4月21日（木）、22日（金）　（2日間）【場所】産業技術総合研究所つくば中央2-12棟　ナノプロセシング施設【参加費】無料【定員】 3名【実習の概要】ハイデルベルグ・インストルメンツ社製レーザー描画装置DWL 66+を使ったマスクレスでのバイナリー及びグレイスケール露光とGenISys社製BEAMERを使ったデータ補正技術を実際にご覧頂きます。

１日目：描画データ補正ソフトBEAMERを使った、バイナリ露光を行う際の粗密による線幅変動補正や、コーナー強調などのデータ補正技術の習得とともにレーザー描画装置の基本動作について実習します。

２日目：グレイスケール露光による3次元構造物を作製する際のデータ補正方法の習得。CADデータと３次元高さ情報に加えて、レジスト感度曲線、レジストの光学パラメータからBEAMERでドーズ量を自動計算します。補正されたデータを使った３次元構造パターンの作製について実習いたします。