【終了】【産総研】ナノプロセシング施設オンラインセミナー『マスクレス描画技術』

2022年1月20日
【終了】【産総研】ナノプロセシング施設オンラインセミナー『マスクレス描画技術』

産業技術総合研究所TIA推進センター ナノプロセシング施設(NPF) は、電子ビーム、及びレーザービームを用いたマスクレス描画に関わる技術セミナーを、オンラインにて2022年3月11日(金)に開催します。

前半はシリコン量子ビット作製に向けた極微細電子ビーム露光技術と電子ビーム描画装置の高速化について、後半はレーザー描画装置によるグレースケール露光や厚膜レジストプロセスについて紹介いたします。

産学官いずれのご所属の方にも奮ってのご参加をお待ちしています。

本セミナーでは2022年度からのご利用が可能になるハイデルベルグ・インストルメンツ 社製のDWLレーザー描画装置を使ったリソグラフィ実習コースをご用意しました。座学コースへの参加が条件となりますが、こちらについても参加をお待ちしています。

講演

【日時】 2022年3月11日(金)12:55~17:10【オンライン】 会議招待メールを後日参加申し込みされた方にお送りします。【参加費】 無料【定員】 150名(先着順、参加登録をお願いします)【登録】 参加申込ページから行って下さい。

リソグラフィ実習コース

【日時】 2022年4月21日(木)、22日(金) (2日間)【場所】 産業技術総合研究所つくば中央2-12棟 ナノプロセシング施設【参加費】 無料【定員】 3名【実習の概要】 ハイデルベルグ・インストルメンツ社製レーザー描画装置DWL 66+を使ったマスクレスでのバイナリー及びグレイスケール露光とGenISys社製BEAMERを使ったデータ補正技術を実際にご覧頂きます。

1日目:描画データ補正ソフトBEAMERを使った、バイナリ露光を行う際の粗密による線幅変動補正や、コーナー強調などのデータ補正技術の習得とともにレーザー描画装置の基本動作について実習します。

2日目:グレイスケール露光による3次元構造物を作製する際のデータ補正方法の習得。CADデータと3次元高さ情報に加えて、レジスト感度曲線、レジストの光学パラメータからBEAMERでドーズ量を自動計算します。補正されたデータを使った3次元構造パターンの作製について実習いたします。

主催・協賛

【主催】 産業技術総合研究所 TIA推進センター ナノプロセシング施設(NPF)【共催】 

ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会(TSC)

お問い合わせ先

国立研究開発法人 産業技術総合研究所

TIA推進センター 共用施設運営ユニット 共用施設ステーション

ナノプロセシング施設

電子メールアドレス:tia-npf-school2@aist.go.jp

お申込み方法や詳細は、次のURLをご参照ください。

https://www.tia-kyoyo.jp/npf/seminar/2021-2/index.html

掲載内容は、掲載日時点のもので、掲載内容に注意を払って確認をしていますが、変更や転載誤り等の可能性がありますので必ず公式サイトをご確認ください。


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