企業概要・PRポイント
通信用光半導体素子の研究開発・設計・製造・販売。当社の半導体レーザおよびフォトダイオードは、データセンタやワイヤレスネットワーク市場で高信頼を得ております。
技術力、得意分野、アピールポイントなど
世界初の海底光ファイバ通信用レーザを1985年に実用化して以来、日本ルメンタムは常に最先端の光デバイスで豊かな情報通信社会の発展に貢献してきました。業界トップの性能へ挑戦し続ける革新的なアイデアと豊富な経験によって、市場で高いシェアを獲得するだけでなく、多くのお客様との協創的なコラボレーションによって業界をリードしています。
実績・品質等
当社は、常に革新的な技術を用いて、最先端の半導体素子を市場に供給し続けています。
■ 2020年
3月：800GE(ギガビットイーサ)向け半導体レーザを発表
■ 2019 年
9月：世界最速の高温動作半導体レーザを発表
6月：社名を日本オクラロ株式会社から日本ルメンタム株式会社へ改称
■ 2018 年
12月：Lumentumのグループ会社となる
9月：400GE向け変調器集積レーザを発表
■ 2016 年
3月：現在トップシェアとなっている光通信用レーザを販売開始、100GEの普及に貢献
■ 2013 年
横浜市から現在の相模原市へ事業所移転
■ 2012 年
Oclaro Inc.と合併し日本オクラロ株式会社へ改称
■ 2007 年
世界初の温度制御を必要としない変調器集積レーザを発売
■ 2000 年
Opnext, Inc.を設立し株式会社日立製作所から独立
■ 1998 年
革新的な10Gb/s変調器集積レーザの量産を開始
■ 1990 年
世界初の1.55μm半導体多重量子井戸レーザの量産化
■ 1982 年
世界初の大西洋横断海底光ファイバ通信で使用する半導体レーザを開発
■ 1975 年
世界初の分布帰還型(DFB)型レーザの電流注入発振に成功
■ 1974 年
世界初の埋込(BH)型レーザの室温連続発振に成功
加工処理技術
半導体製造技術（結晶成長、エッチング、フォトリソグラフィー、蒸着 他)
最終製品
主力製品はデータセンタやワイヤレスネットワーク用光送受信トランシーバに使用される直接変調方式レーザ DML: Directly Modulation Laser及び外部変調方式 レーザ EML: Electro-absorption Modulator integrated with DFB Laserです。市場のニーズに合わせ、CWDM、L-WDM等各種波長帯を取り揃えています。
主要設備
半導体製造装置（結晶成長、エッチング、フォトリソグラフィー、蒸着 他)
製造能力、保有特許、品質管理等
保有特許数：多数。
ISO 9001取得、ISO14001取得
企業概要
| 名称 | 日本Lumentum株式会社 |
| 所在地 | 神奈川県相模原市中央区小山 4-1-55 |
| マップ | |
| 連絡先 | 042-770-7011 |
| FAX番号 | 042-770-7160 |
| メールアドレス | takeshi.sato▲lumentum.com（正式なメールアドレスは、「▲」を「@」に変更してください。） |
| 代表者名 | 戸内 孝治 |
| 従業員数 | 135人 |
| 資本金 | 200,000,000円 |
| ホームページアドレス | https://www.lumentum.co.jp/ja |
